ASML e Zeiss preveem tecnologia Hyper NA em 10 anos
Estudo conjunto projeta abertura de 0,75 enquanto as ações sobem 1,3%.
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ASML Holding N.V. e a Carl Zeiss SMT anunciaram que a sua tecnologia de litografia de última geração para semicondutores, chamada Hyper NA, poderá estar pronta em cerca de 10 anos. A estimativa foi apresentada em um artigo científico conjunto publicado no Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology e noticiado pela Reuters em 8 de outubro de 2026.
A plataforma Hyper NA visa alcançar uma abertura numérica óptica de 0,75, contra 0,55 dos atuais equipamentos ultravioleta extremo High NA. O projeto reaproveita a fonte de luz com comprimento de onda de 13,5 nanômetros e permite imprimir circuitos com tamanho mínimo de 5 nanômetros. Esse patamar representa uma redução de 33,3% no tamanho das estruturas em relação aos sistemas High NA EUV, embora traga uma redução estimada de 50% na profundidade de foco que impõe um desafio de engenharia.
O cronograma surge enquanto os maiores fabricantes mundiais de chips ainda preparam a adoção dos sistemas High NA atuais. A Samsung Electronics e a SK Hynix têm como meta o ano de 2028 para adotar as ferramentas High NA EUV, com a Samsung aplicando a tecnologia na produção em larga escala de memória DRAM. Já a TSMC planeja integrar os sistemas High NA EUV à produção de chips avançados em 2030.
As ações da ASML subiram 1,3% durante a sessão na bolsa NASDAQ após a divulgação, cotadas a US$ 1.828,35 em 8 de outubro de 2026.
Os preços das ações podem subir e cair. O desempenho passado não garante resultados futuros. Este artigo é uma notícia, não uma recomendação de investimento.
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