ASML y Zeiss prevén la tecnología Hyper NA en 10 años
Un informe conjunto detalla una apertura de 0,75 mientras la acción sube un 1,3%.
ASML Holding N.V. y su socio óptico Carl Zeiss SMT anunciaron que la tecnología de fabricación de chips de próxima generación, denominada Hyper NA, podría estar lista en aproximadamente 10 años. La previsión se detalló en un artículo de investigación conjunto publicado en el Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology y reportado por Reuters el 8 de octubre de 2026.
La plataforma Hyper NA busca alcanzar una apertura numérica óptica de 0,75, frente al 0,55 de los sistemas actuales de ultravioleta extremo High NA. El diseño reutiliza la longitud de onda de 13,5 nanómetros existente y permite imprimir componentes con un tamaño mínimo de 5 nanómetros. Esto equivale a una reducción de 33,3% en el tamaño de los circuitos respecto a las máquinas High NA EUV, aunque supone una reducción estimada de 50% en la profundidad de foco que representa un desafío de ingeniería.
Esta perspectiva a largo plazo llega mientras los principales fabricantes de semiconductores preparan sus despliegues de la tecnología High NA actual. Samsung Electronics y SK Hynix prevén implementar sistemas High NA EUV en 2028, con Samsung aplicándolos a la producción a gran escala de memorias DRAM. Por su parte, TSMC apunta al año 2030 para incorporarlos a la manufactura de nodos avanzados.
Las acciones de ASML subieron un 1,3% durante la sesión en el índice NASDAQ tras conocerse la noticia, para situarse en 1.828,35 dólares el 8 de octubre de 2026.
Los precios de las acciones pueden subir y bajar. El rendimiento pasado no garantiza resultados futuros. Este artículo es una noticia, no una recomendación de inversión.
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